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PB1000型微纳米力学综合测试系统
PB1000是美国NANOVEA公司最经典的一款微纳米力学综合测试系统，该系统聚纳米压痕仪、纳米划痕仪、微米压痕仪、微米压痕仪四个功能模块于一身，可用于检测材料的硬度、划痕硬度、弹性模量、蠕变、断裂韧度、粘弹性、薄膜与基底结合力、划痕硬度、摩擦系数，磨损率等力学参数。
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CB500型微纳米力学综合测试系统
CB500是美国NANOVEA公司推出的一款低价格的微纳米力学综合测试系统，该系统聚纳米压痕仪与纳米划痕仪或者微米压痕仪与微米压痕仪两个功能模块于一身，这款仪器采用模块化设计，可在一款仪器下实现纳米与微米/大载荷三个尺度下的压痕，划痕与摩擦磨损测试，进而可得到硬度、弹性模量、蠕变信息、弹塑性、断裂韧度、应力-应变曲线、膜基结合力、划痕硬度、摩擦系数、磨损率等微观力学数据。
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三维表面形貌仪
微纳米力学测试系统
原子力显微镜
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NX-Hivac 型真空原子力显微镜
NX-Hivac 型真空原子力显微镜是主要用为对气氛与水敏感材料研究专门设计的一款高真空原子力显微镜。NX-Hivac同样是一款全自动的原子力显微镜系统，扫描分辨率达到了0.02nm，集成了PARK公司专利技术“非接触式工作模式”“智能扫描模式”“基于压电陶瓷堆积技术的平板扫描器”，并标配快速扫描模式，变速扫描模式，加上可选功能模块，使得NX-Hivac型原子力显微镜被广泛用于物理，电学，力学，半导体等方向的研究。
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NX10型科研级原子力显微镜
NX10型原子力显微镜是PARK公司最经典的原子力显微镜，这是一款全自动的原子力显微镜系统，扫描分辨率全球最高，达到了0.02nm，同时集成了PARK公司专利技术“非接触式工作模式”“智能扫描模式”“基于压电陶瓷堆积技术的平板扫描器”，并标配快速扫描模式，变速扫描模式，加上可选功能模块，使得NX10型原子力显微镜可用于物理，化学，生物，医药学，细胞学，电学，力学，磁学等方面。
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XE7型低预算原子力显微镜
XE7型原子力显微镜是韩国PARK原子力显微镜公司推出的一款高性价比的科研级原子力显微镜，这是一款手动的原子力显微镜系统，适用于预算不足的科研用户。扫描分辨率达到了0.02nm，集成了PARK公司专利技术“非接触式工作模式”、“智能扫描模式”、“基于压电陶瓷堆积技术的平板扫描器”、并标配变速扫描模式，同时具有可选功能模块，使得XE7型原子力显微镜被广泛用于物理，化学，电学，力学，半导体，磁学等方向的研究。
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NX20-300半导体原子力显微镜
NX20-300半导体原子力显微镜专门为12寸半导体300mm晶圆片自动化测量和分析而研制的，具有自动识别、自动测量、自动分析的功能，同时具有缺陷自动寻找，快速扫描，电流快速等功能，并能与Robert联用提高产线效率，是工业生产与QC控制最理想的工具。
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NX20 大尺寸原子力显微镜
Park公司的NX20型原子力显微镜是全球最精密的大型样品原子力显微镜，最大尺寸可达300mm*300mm,凭借着出色的数据准确性，广泛用于半导体、硬盘行业、LED、LCD、OLED等行业。
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XE15型大尺寸原子力显微镜
XE15型原子力显微镜是韩国PARK原子力显微镜公司专为工业检测实验室设计开发的一款大尺寸原子力显微镜，这是一款全自动的原子力显微镜系统，最大扫描范围达200mm*200mm，扫描分辨率0.03nm，集成了PARK公司专利技术“非接触式工作模式”“智能扫描模式”“基于压电陶瓷堆积技术的平板扫描器”，并标配快速扫描模式，变速扫描模式，多种测量模式可选，XE15型原子力显微镜被广泛用于半导体，LCD，LED，OLED，硬盘等工业领域的实验室QC控制。
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NX12型生物原子力显微镜
NX12型生物原子力显微镜是目前全球功能最强大的原子力检测系统，该仪器集倒置荧光显微镜，原子力显微镜，扫描离子电导显微镜，膜片钳四种主要的生物显微镜于一体，广泛用于活细胞成像，DNA三维成像，细胞力学参数表征，原位扫描电化学，神经科学，是生物科研工作者最理想的分析检测工具。
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NX10-SICM 扫描离子电导显微镜
NX10-SICM型扫描离子电导显微镜是目前PARK原子力显微镜中重要的一员，该仪器真正意义上实现了液下活细胞的三维非接触式测量，除活细胞成像外，可与电化学工作站与膜片钳联用，广泛用于活细胞成像，原位扫描电化学，神经科学，是生物科研工作者最理想的分析检测工具。
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3DM Series 原子力显微镜
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Automated Industrial AFM for High-Resolution 3D Metrology
Park Systems推出革命性的XE-3DM全自动原子力显微镜系统，专为垂悬轮廓、高分辨率侧壁成像和临界角的测量而设计。借助独有的XY轴和Z轴独立扫描系统和倾斜式Z轴扫描器，XE-3DM成功克服精确侧壁分析中的法向和喇叭形头所带来的挑战。在True Non-Contact™模式下，XE-3DM可实现带有高长宽比尖端的柔软光刻胶的无损测量。立即购买
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HDM Series 原子力显微镜
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Simply the best AFM for automatic defect review and surface roughness measurement
对于媒介和基体领域的工程师而言，识别纳米级缺陷是一个非常耗时的工作。Park NX-HDM原子力显微镜系统可借助数量级实现自动缺陷识别、扫描和分析，从而加快缺陷的检查过程。Park NX-HDM可与众多的光学检查工具直接进行连接，这就意味着自动缺点检查通量会大幅提高。此外，Park NX-HDM拥有精确的次埃米表面粗糙度测量功能。凭借着业内最低的本底噪声和独特的True Non-Contact™技术，Park NX-HDM毫无疑问是市面上表面粗糙度测量最精确的原子力显微镜。立即购买
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PTR Series 原子力显微镜
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The Fully Automated AFM for Accurate Inline Metrology of Hard Disk Head Sliders that makes doing great work simpler.
Park Systems的PTR系列是针对全自动工业级线上的原子力显微镜解决方案，适用于（不限于）长形条、磁头万向节组件(HGA)级滑块以及单独滑块的极尖沉降自动测量。凭借着亚纳米级精确度、高重复精度以及高通量，PTR系列是滑块厂商提高整体产量的理想测量工具。立即购买
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Wafer Series 原子力显微镜
1概览Automated Industrial AFM for In-line Wafer Inspection and Metrology
Park Systems推出业内噪声最低的全自动化工业级原子力显微镜——XE-Wafer。该自动化原子力显微镜系统旨在为全天候生产线上的亚米级晶体（尺寸200 mm和300 mm）提供线上高分辨率表面粗糙度、沟槽宽度、深度和角度测量。借助True Non-Contact™模式，即便是在结构柔软的样品，例如光刻胶沟槽表面，XE-Wafer都能实现无损测量。PROBLEMS
目前，硬盘和半导体业的工艺工程师使用成本高昂的聚焦离子束(FIB)/扫瞄式电子显微镜(SEM)获取纳米级的表面粗糙度、侧壁角度和高度。不幸的是，FIB/SEM会破坏样品，且速度慢，成本高昂。SOLUTION
XE-Wafer原子力显微镜实现全自动化的在线200 mm & 300 mm晶体表面粗糙度、深度和角度测量，且速度快、精度高、成本低。BENEFIT
XE-Wafer让无损线上成像成为可能，并实现多位置的直接可重复高分辨率测量。更高的精确度和线宽粗糙度监控能力让工艺工程师得以制造性能更高的仪器，且成本显著低于FIB/SEM。立即购买
扫描电镜
等离子刻蚀机
扫描近场光学显微镜
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REAL RTP100型快速退火炉
REAL RTP100型快速退火炉是韩国ULTECH公司的一款4寸片快速退火炉，采用革新的加热技术，可实现真正的基底温度测量，不需要采用传统快速退火炉的温度补偿，温度控制精确，温度重复性高，客户包括国际上许多半导体公司及知名科研团队，是半导体制程退火工艺的理想选择。
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REAL RTP150型快速退火炉
REAL RTP150型快速退火炉是韩国ULTECH公司的一款6寸片快速退火炉，采用革新的加热技术，可实现真正的基底温度测量，不需要采用传统快速退火炉的温度补偿，温度控制精确，温度重复性高，客户包括国际上许多半导体公司及知名科研团队，是半导体制程退火工艺的理想选择。
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REAL RTP200型快速退火炉
REAL RTP200型快速退火炉是韩国ULTECH公司的一款8寸片快速退火炉，采用革新的加热技术，可实现真正的基底温度测量，不需要采用传统快速退火炉的温度补偿，温度控制精确，温度重复性高，客户包括国际上许多半导体公司及知名科研团队，是半导体制程退火工艺的理想选择
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拉曼-SEM
共聚焦拉曼显微镜
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拉曼成像与扫描电子联用显微镜
与ZEISS电镜联用的 RISE 显微镜（拉曼-SEM）
RISE 显微镜是一款新型联用显微镜，它将 SEM 和共聚焦拉曼成像结合在一起。通过 RISE 显微镜，可以将超微结构表面特性与分子化合物信息关联起来。RISE 显微镜将SEM 和alpha300共聚焦拉曼成像显微镜的所有功能都融于一台仪器中。立即购买
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Alpha300-RAMAN共焦拉曼光谱仪
Alpha300R系列被誉为引领科技的优秀成像系统，在创新精神指导下不断的研发，使得Alpha 300R始终处于技术的前沿，特别是在显微光谱成像系统的灵活性，灵敏度，速度和性能上，已经成为业界的行业标准。这些独特的特性使Alpha 300R成为共聚焦拉曼成像系统的市场引导者。
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WITec alpha 300S扫描近场显微镜
WITec alpha 300S扫描近场光学显微镜是一种纯近场光学显微镜，在很多样品上都可获得一致的超高分辨率，并且拥有透射与反射式两种模式。
该近场光学显微镜不同于其他的超分辨显微镜，如 STED 和 STORM，后二者往往受限于荧光染料分子的可选种类及特殊的激发光源。 alpha300S 系统采用软件可控的快速自动进针及调节等自动测试流程，操作非常简便、直观。
由于近场光学信号极其微弱，alpha300 S 近场光学显微镜配备高灵敏单光子计数的光电倍增管或雪崩二极管，并同时提供检测器快速超载保护。更重要的是，UHTS 光谱仪可与 alpha300S系统兼容，实现近场光谱与成像测量。立即购买
棱镜耦合仪
扫描超声显微镜
超景深三维显微镜
万能摩擦磨损试验机
纳米CVD系统
快速退火炉
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T2000型万能摩擦磨损试验机
T2000型万能摩擦磨损试验机是美国NANOVEA公司推出的一款大载荷连续变载的高速万能摩擦试验机，最大载荷达2000N，采用高级气动加载方式，载荷实现了连续变载，超低速可用于测量静摩擦系数，连续变速可以得到Stribeck曲线，集成公司专利的三维形貌仪模块可自动测量磨损率与磨损前后的三维形貌。同时采用模块化设计，可根据客户的应用于预算任意搭配模块，并且后期升级及其方便，是科研用户的理想选择。
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T100型多功能摩擦磨损试验机
T100型多功能摩擦磨损试验机是美国NANOVEA公司最新推出的一款小载荷连续变载多功能磨损试验系统，采用高级气动加载方式，载荷实现了连续变载，最大法向加载载荷为100N，超低速可用于测量静摩擦系数，连续变速可以得到Stribeck曲线，集成公司专利的二维形貌仪模块可自动测量磨损率。同时采用模块化设计，可根据客户的应用于预算任意搭配模块，并且后期升级及其方便，是科研用户的理想选择。
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T50型万能摩擦磨损试验机
T50型万能摩擦磨损试验机是美国NANOVEA公司推出的一款砝码加载的小载荷万能摩擦磨损试验机，该仪器主要有实现了两个重要的技术突破，一方面是速度控制，超低速可用于测量静摩擦系数，连续变速可以得到Stribeck曲线，另一方面是集成了该公司专利的二维形貌仪模块可自动测量磨损率。同时采用模块化设计，可根据客户的应用于预算任意搭配模块，并且后期升级及其方便，是科研客户的理想选择。
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石墨烯纳米CVD系统
nanoCVD-8G石墨烯CVD系统是英国MOORFIELD公司与英国曼彻斯特大学“诺贝尔奖”石墨烯团队共同开发的一款专门生长高质量石墨烯的科研CVD系统，该系统采用国际领先的“冷壁技术”生长石墨烯，具有生长速度快，石墨烯质量高，耗量少，无污染的优点，国际有多篇Science 与Nature的文章里都采用了该设备，是制备高质量二维材料石墨烯科研用户的理想选择。
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碳纳米管纳米CVD系统
nanoCVD-8N型碳纳米管CVD系统是英国MOORFIELD公司与英国曼彻斯特大学“诺贝尔奖”石墨烯团队共同开发的一款专门生长高质量单壁碳纳米管的科研型桌面式CVD系统，该系统采用国际领先的“冷壁技术”生长单壁碳纳米管，典型的直径为0.7-1.2nm，具有生长速度快，质量高，重复性好，耗量少，无污染的优点，国际有多篇Science 与Nature的文章里都采用了该设备，是制备高质量碳纳米管科研用户的理想选择。
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大尺寸石墨烯纳米CVD系统
nanoCVD-WPG型大尺寸石墨烯CVD系统是英国MOORFIELD公司与英国曼彻斯特大学“诺贝尔奖”石墨烯团队共同开发的一款专门大尺寸生长高质量石墨烯的纳米CVD系统，最大样品尺寸可达4寸，该系统采用国际领先的“冷壁技术”及“等离子软刻蚀技术”生长石墨烯，具有生长速度快，石墨烯质量高，耗量少，无污染的优点，是制备大尺寸高质量二维材料石墨烯用户的理想选择。
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nanoPVD-T15A型科研级热蒸发系统
NanoPVD-T15A是英国MOORFIELD公司一款桌面式高性能科研级热蒸发系统，配置有常规电阻热蒸发系统及低温热蒸发系统，分别用于金属薄膜蒸镀及有机薄膜蒸镀，该系统被国际上许多知名学术团队采用，广泛应用于OLED/OPV/OFET的研究领域。
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NanoPVD-S10A型科研级磁控溅射系统
NanoPVD-S10A是英国MOORFIELD公司一款桌面式高性能科研级磁控溅射系统，可配置DC磁控溅射靶与RF磁控溅射靶，用于沉积纳米级的金属及绝缘材料的单层或者多层功能膜与复合膜，该系统被国际上许多知名学术团队采用，是科研用户磁控溅射的理想选择。
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NanoPVD-S10A-WA型科研级大尺寸磁控溅射系统
NanoPVD-S10A-WA是英国MOORFIELD公司一款桌面式高性能科研级大尺寸磁控溅射系统，可配置DC磁控溅射靶与RF磁控溅射靶，用于沉积纳米级的金属及绝缘材料的单层或者多层功能膜与复合膜，该系统被国际上许多知名学术团队采用，是科研用户磁控溅射的理想选择。
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PVD镀膜系统
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MiniLab026 型PVD综合镀膜系统
MiniLab026是英国MOORFIELD公司一款落地式高性能科研级PVD综合镀膜系统，采用模块化设计，可在一台仪器上实现常规电阻热蒸发镀膜，低温热蒸发系统及磁控溅射镀膜,可用于镀金属膜，有机物薄膜及绝缘材料的单层或者多层功能膜与复合膜，同时还可搭载等离子刻蚀机退火模块，该系统被国际上许多知名学术团队采用，是科研用户PVD的理想选择。
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MiniLab060型PVD综合镀膜系统
MiniLab060是英国MOORFIELD公司一款落地式高性能科研级PVD综合镀膜系统，采用模块化设计，可在一台仪器上实现电子束蒸发镀膜，常规电阻热蒸发镀膜，低温热蒸发系统及磁控溅射镀膜,可用于镀金属膜，有机物薄膜及绝缘材料的单层或者多层功能膜与复合膜，同时该系统还可加载等离子源，刻蚀系统与退火系统，是科研用户PVD的理想选择。
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MiniLab125 型PVD综合镀膜系统
MiniLab125是英国MOORFIELD公司一款落地式大尺寸PVD综合镀膜系统，采用模块化设计，可在一台仪器上实现电子束蒸发镀膜，常规电阻热蒸发镀膜，低温热蒸发系统及磁控溅射镀膜,可用于镀金属膜，有机物薄膜及绝缘材料的单层或者多层功能膜与复合膜，同时该系统还可加载等离子源，刻蚀系统与退火系统，是小批量镀膜客户的理想选择。
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X射线衍射仪
真空高温炉
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